Clear Spot Patch

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Formulada con un 45% de agua de centella asiática, un ingrediente calmante que ayuda a agilizar el proceso de regeneración de la piel, combatiendo con las cicatrices del acné. Disminuye la irritación y rojez del rostro además de descongestionar y minimizar la apariencia de las imperfecciones al mismo tiempo que refresca y calma la piel dañada. Gracias al ácido hialurónico hidrata en profundidad evitando que el agua se evapore para que la piel se mantenga hidratada por mucho más tiempo.

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Descripción

Descripción

Formulada con un alto porcentaje de ingredientes calmantes que ayudan a agilizar el proceso de regeneración de la piel, combatiendo con las cicatrices del acné. Disminuye la irritación y rojez del rostro además de descongestionar y minimizar la apariencia de las imperfecciones al mismo tiempo que refresca y calma la piel dañada. Hidrata en profundidad evitando que el agua se evapore para que la piel se mantenga hidratada por mucho más tiempo.

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  • Formulada con un 45% de agua de centella asiática y hialuronato de sodio.
  • Apto para todo tipo de piel, ideal para pieles sensibles y acneicas.
  • Cruelty free, Libre de sulfatos, parabenos y fragancias artificiales, Vegano.

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Modo de uso

Para rutinas minimalistas, la mascarilla se usa posterior a doble limpieza y tónico. Para rutinas completas de aplica luego de la esencia y/o serum. Deja actuar por 20 minutos, retira la mascarilla y masajea suavemente tu rostro para una absorción completa de la esencia.

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Paso en la rutina

Ingredientes

Centella Asiatica Leaf Water, Aqua (Water), Glycerin, Pentylene Glycol, Butylene Glycol, Microcrystalline Cellulose, Centella Asiatica Extract, Sodium Gluconate, Sodium Hyaluronate, Propanedio, Dipotassium Glycyrrhizate, Asiatic Acid, Madecassic Acid, Asiaticoside, Madecassoside, Portulaca Oleracea Extract, Xanthan Gum, Cellulose Gum, Caprylic/Capric Triglyceride, Hydrogenated Phosphatidylchloine, 1,2-Hexanedio, Cetearyl Alcohol, Sucrose Stearate.

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